Producent zaawansowanych technologicznie elementów optycznych miał problemy z wydajnością podczas fazy ekspozycji i twardnienia w procesie wytwarzania mikroobiektywów na poziomie płytki.

• Niespójność promieniowania:Tradycyjne lampy UV nie były w stanie zapewnić równomiernego rozkładu światła na dużych powierzchniach podłoża.

• Rozszerzenie termiczne:Nadmierne ciepło podczerwone wypaczało delikatne struktury soczewek podmikronowych podczas procesu fotolitografii i utwardzania.

Zamiast tradycyjnych żarówek rtęciowych lub metod podawania, zastosowaliśmySystem o wysokiej jednolitości UV LEDspecjalnie zaprojektowane do przetwarzania optycznego półprzewodnika:

• Ekspozycja na żywicę powlekaną:System zapewnia ekspozycję całej powierzchni bezpośrednio na powlekaną warstwę fotorezystycznej/UV żywicy poprzez fotomaskę.

• Zaawansowany projekt optyczny:Specjalnie zaprojektowane soczewki optymalizują rozkład światła, dając wiodącą w branżyjednolitość promieniowania w zakresie ± 3%w całym obszarze utwardzania.

• Prawdziwe źródło światła:Działający z dokładną365 nm wąskopasmowe spektrumSystem eliminuje promieniowanie podczerwone, utrzymując podłoże w temperaturze pokojowej, aby chronić mikrostruktury przed deformacją termiczną.

• Bezbłędna konsystencja produktu:Wskaźniki odrzucenia spowodowane brakiem utwardzania krawędzi spadły dozero, dzięki ultra jednorodnemu polu promieniowania UV.

• Integralność strukturalna pod mikronami:Wyeliminowanie naprężenia termicznego zapewniło doskonałą stabilność wymiarową dla precyzyjnych soczewek Fresnela.

• Zwiększona wydajność produkcji:Natychmiastowe włączenie i wyłączenie UV LED eliminuje czas rozgrzewki, maksymalizując przepustowość dla dużych linii półprzewodników.

[Zadzwoń do naszych inżynierów aplikacji o niestandardowe rozwiązanie UV LED-Shenzhen Super-curing Opto-Electronic CO., Ltd/